섹터: 한국 반도체 장비·소재 국산화 | SK하이닉스 EUV: 12조원 ASML 도입 원익IPS: 영업익 1,810억(+140% YoY) | 주성엔지니어링: ALD 글로벌 경쟁 EUV 소재: 동진쎄미켐 감광액 국산화 | 이솔: EUV 소스 국산화 도전
SK하이닉스, 12조원 EUV 장비 도입: 국내 최대
SK하이닉스(000660)가 ASML코리아로부터 11조9,496억원 규모의 EUV 스캐너를 도입한다. 국내 단일 장비 구매 계약으로 역대 최대다. HBM4·DDR6 등 차세대 메모리에 EUV 공정이 필수적이 되면서 천문학적 투자를 단행한 것이다.
EUV 장비 1대 가격이 4,000억원에 달하는 만큼, 12조원이면 약 30대 규모다. 이천·청주 팹에 순차 배치되며 2027년부터 본격 가동된다. ASML 독점 구조에서 벗어나기 어려운 현실이 비용 부담의 근본 원인이다.
원익IPS: 영업익 2.4배, 국산 장비의 반격
원익IPS(240810)의 2026년 영업이익이 전년 대비 2.4배(1,810억원)로 급증할 전망이다. 반도체 증착(PECVD·ALD)·열처리 장비에서 국내 1위이며, 삼성전자·SK하이닉스의 HBM·3D NAND 투자 확대가 직접 수혜다.
원익IPS의 강점은 국산 장비사 중 유일하게 삼성+하이닉스 양쪽에 공급한다는 점이다. 외산 장비(어플라이드·램리서치·도쿄일렉트론) 대비 30~40% 저렴한 가격과 빠른 A/S가 경쟁력이다.
주성엔지니어링: ALD로 글로벌 도전
주성엔지니어링(036930)은 원자층증착(ALD) 장비에서 도쿄일렉트론과 직접 경쟁하는 국내 유일 기업이다. 삼성전자 파운드리 2nm 라인에 ALD 장비를 공급하고 있으며, 중국 팹에도 수출을 확대 중이다.
ALD는 2nm 이하 미세공정에서 원자 단위 박막을 입히는 핵심 공정으로, 공정이 미세화될수록 수요가 폭증한다. 주성엔지니어링은 연구개발비 비중이 매출의 15%에 달하며 기술 격차를 좁히고 있다.
📊 한국 반도체 장비·소재 국산화 현황
종목
분야
경쟁 대상
국산화율
원익IPS(240810)
CVD·ALD 증착
어플라이드·램리서치
40%+
주성엔지니어링(036930)
ALD·식각
도쿄일렉트론
15~20%
동진쎄미켐(005290)
EUV 감광액
JSR·TOK(일본)
국내 첫 양산
에스앤에스텍(101490)
EUV 블랭크마스크
HOYA(일본)
상용화 준비
이솔(비상장)
EUV 광원
ASML(독점)
R&D 단계
EUV 소재 국산화: 감광액·블랭크마스크
장비만큼 중요한 것이 소재 국산화다. 동진쎄미켐(005290)은 2022년 국내 최초 EUV용 감광액(포토레지스트) 국산화에 성공해 삼성전자·SK하이닉스 D램 라인에 공급 중이다. 기존 일본 JSR·TOK가 독점하던 시장에 균열을 냈다.
에스앤에스텍(101490)은 EUV용 블랭크마스크(회로 패턴 원판) 국산화를 추진 중이며, 증설 투자를 통해 생산능력을 확대할 계획이다. 2019년 일본 수출 규제 이후 시작된 소재 국산화가 7년 만에 실질적 성과를 내고 있다.
관전 포인트
하이NA EUV 도입: 2026~2027년 ASML 하이NA 대량 양산 → 국산 장비와의 기술 격차 변수
미·중 규제 반사이익: 중국이 일본·미국 장비를 못 사면 한국 장비 수요 증가
정부 지원: ‘반도체 특별법’ R&D 세액공제 확대 → 국산화 가속
삼성·하이닉스 Capex: 양사 합산 연간 60조원+ → 장비 수요 지속
📅 주요 일정 – 4/17 ASML 1Q26 실적 (하이NA 수주 현황) – 5월 원익IPS·주성엔지니어링 1Q26 실적 – 6월 세미콘 코리아 2026 (국산 장비 전시)
Q: 한국이 EUV 장비를 자체 만들 수 있나?
A: 완성 장비는 ASML의 30년 축적을 따라잡기 어렵다. 하지만 EUV 내부 부품(광원·렌즈·스테이지)과 소재(감광액·블랭크마스크) 국산화는 가능하며 이미 진행 중이다. 부품 국산화가 전체 장비 비용을 낮추는 현실적 전략이다.
Q: 국산 장비가 외산 장비를 대체할 수 있는 공정은?
A: 증착(CVD·ALD)·세정·검사 공정에서 국산화율이 가장 높다. 노광(ASML 독점)과 식각(램리서치 강세) 분야는 진입 장벽이 높지만, 주성엔지니어링이 식각에서도 점유율을 높이고 있다.
Summary: SK Hynix signed a KRW 12T EUV scanner deal with ASML, Korea’s largest single equipment purchase. Wonik IPS sees 2.4x profit growth on domestic deposition equipment demand. Dongjin Semichem achieved Korea’s first EUV photoresist mass production, breaking Japan’s monopoly. The semiconductor equipment localization push, triggered by Japan’s 2019 export curbs, is yielding tangible results seven years later.
※ 본 기사는 중앙이코노미뉴스, 디일렉, 전자신문, 시사저널e 등 복수 매체 보도를 재가공해 작성했으며, 정보 제공 목적입니다. 투자 판단과 책임은 투자자 본인에게 있습니다.
